靶材的一些主要分类你知道吗？

　　溅射是制备薄膜材料的主要技术之一，它利用离子源产生的离子，在真空中经过加速聚集，而形成高速度能的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面，被轰击的固体即为溅射靶材。

　　靶材的发展趋势是高溅射率、晶粒晶向控制、大尺寸、高纯金属。一般按照不同应用领域可分为半导体靶材、磁记录靶材、光记录靶材、显示靶材和其他应用靶材。

　　半导体靶材主要包括电极、布线薄膜、储存器电极薄膜、粘附薄膜、电容器绝缘膜薄膜（锆钛酸铅靶材等）；

　　磁记录靶材主要包括垂直磁记录薄膜、硬盘用薄膜、薄膜磁头、人工晶体薄膜（钴铂合金靶材，钴钯合金靶材等）；

　　光记录靶材主要包括相变光盘记录薄膜、磁光盘记录薄膜、光盘反射薄膜、光盘保护薄膜（氮化硅靶材，氧化硅靶材，硫化锌靶材等）；

　　显示靶材主要包括透明导电薄膜、电极布线薄膜、电致发光薄膜（硫化锌掺锰靶材，硫化锌掺铽靶材，硫化钙掺铕靶材，氧化钇靶材，氧化钽靶材，钛酸钡靶材等）；

　　其他应用靶材主要包括装饰薄膜、低电阻薄膜、超导薄膜、工具镀薄膜（氮化物靶材，碳化物靶材，硼化物靶材，铬靶材，钛靶材，钛铝合金靶材，锆靶材，石墨靶材等）。