液体导电胶主要由树脂基体、导电粒子和分散添加剂、助剂等组成。目前市场上使用的导电胶大都是填料型。填料型导电胶的树脂基体,原则上讲,可以采用各种胶勃剂类型的树脂基体,常用的一般有热固性胶黏剂如环氧树脂、有机硅树脂、聚酰亚胺树脂、酚醛树脂、聚氨酯、丙烯酸树脂等胶黏剂体系。这些胶黏剂在固化后形成了导电胶的分子骨架结构,提供了力学性能和粘接性能保障,并使导电填料粒子形成通道。由于环氧树脂可以在室温或低于150℃固化,并且具有丰富的配方可设计性能,目前环氧树脂基导电胶占主导地位。导电胶...

离子切割的加工原理与电子束加工基本类似，也是在真空条件下，将离子源产生的离子束经过加速后撞击在工件表面上，引起材料变形，破坏分离。由于离子带正电荷，其质量是电子的千万倍，因此离子束加工主要靠高速离子束的微观机械撞击动能，因此，离子束撞击工件将引起变形、分离、玻坏等机械作用，而不像电子束是通过热效应进行加工。在真空室中将离子源产生的离子引出，并在电场中加速，形成几十电子伏到几十千电子伏能量的离子束。在离子束溅射沉积、离子束直接沉积或电子束蒸发沉积薄膜的同时，用上述离子束进行轰击...

从原理上讲，扫描电镜的照明体系与透射电镜中的类似。但不一样的是扫描电镜标样有一些*需求，例如经聚光镜作用后抵达样品处的电子束应是直径很细的电子探针；电子束能作扫描运动；末级聚光镜的计划应便于信号的搜集等。扫描电子镜电子枪的高压不及透射电子显微镜中那样高，一般设定在1-50kv。电子枪的阴极可所以热钨丝型的，但近年来已更多选用阴极，有些电镜上选用场发射枪，乃至肖特基热场发射枪。以热钨丝阴极为例，在前述加快电压下电子发射所构成的光源小的直径。为了包管较好的分辨率，有必要将它们经聚...

TIC3X电镜制样设备可以灵活选择多种样品台，不仅适用于高通量实验，也适合于特定制样需求实验室。依据具体需求，每台TIC3X都可装配多种可切换样品台，如标准样品台、三样品台、旋转样品台或冷冻样品台，应用于常规样品制备，高通量样品制备，以及某些高分子聚合物，橡胶或生物材料等温度极敏感样品制备。TIC3X电镜制样设备有关样品的初步处理：1.取材对扫描电镜来说，样品可以稍大些，面积可达8×8mm，厚度可达5mm。对于易卷曲的样品如血管、胃肠道粘膜等，可固定在滤纸或卡片纸上，以充分暴...

真空镀膜仪以几十电子伏特或更高动能的荷电粒子炮击材料外表，使其溅射出进入气相，可用来刻蚀和镀膜。入射一个离子所溅射出的原子个数称为溅射产额，产额越高溅射速度越快，以Cu，Au，Ag等高，Ti，Mo，Ta，W等低。一般在0.1-10原子/离子。离子能够直流辉光放电发生，在10-1-10Pa真空度，在两极间加高压发生放电，正离子会炮击负电之靶材而溅射也靶材，而镀至被镀物上。真空镀膜仪为何要进行定期的清洗？镀膜仪使用时间久了之后要定期进行清洗。在真空镀膜仪使用镀膜材料进行镀膜之前，...

离子切割是利用惰性气体元素或其他元素的离子在电场中加速成高速离子束流，以其动能进行各种微细加工的方法，离子束加工在真空中进行，污染少，特别适合加工高纯度的半导体材料及易氧化的金属材料。离子束加工的宏观压力小，因此加工应力小，热变形小，加工表面质量高，适合于各种材料和低刚度零件的加工。离子切割的应用范围如下：1.去除加工首先把氩、氪或氙等惰性气体充入低真空度的电离室中，用髙频放电或直流放电使之等离子化(即正离子数与负离子数相等的混合体），在加速电极的作用下，离子从等离子体中呈束...

三离子束切割仪可灵活选择多种样品台，不仅适用于高通量实验，也适合于特定制样需求实验室。依据用户具体需求，每台设备都可装配多种可切换样品台，如标准样品台，三样品台，旋转样品台或冷冻样品台，应用于常规样品制备，高通量样品制备，以及某些高分子聚合物，橡胶或生物材料等温度极敏感样品制备。其与环境传输系统相连接，可以实现将冷冻的生物样品表面受保护地被真空冷冻传输进入镀膜仪或冷冻扫描电镜中，或者应用于地质或工业材料样品，实现真空传输。三离子束切割仪的切割枪开关加装了防止误操作的滑动按钮，...