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材料领域先进制样技术研讨会【苏州站】,邀您共襄盛举!🎉亲爱的各位电镜专家们,您是否对电镜制样技术的最新进展充满好奇?是否渴望与业界同僚面对面交流心得?那么,这场研讨会您绝对不能错过!🔬电镜制样技术,开启材料检测新篇章电镜制样技术,作为材料检测的“火眼金睛”,其重要性日益凸显。本次研讨会,我们将深入探讨精密定点加工技术在电子半导体、高分子、新能源等领域的创...
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扫描电镜样品台可直接利用样品表面材料的物质性能进行微观成像,扫描电镜有较高的放大倍数且连续可调,是当今十分有用的科学研究仪器。对于它试验的样品来说有哪些要求呢?1.形态必须耐高真空如有些含水量很大的细胞,在真空中很快被抽干水分,细胞的形态也发生了改变,无法对各类型细胞进行区分。2.样品表面不能含有有机油脂类污染物油污在电子束作用下易分解成碳氢化物,对真空环境造成极大污染。样品表面细节被碳氢化合物遮盖;碳氢化合物降低了成像信号产量;碳氢化合物吸附在电子束光路引起极大象散;碳氢化...
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镀膜仪是目前镀膜行业应用广泛的真空设备,随着行业的发展,各种类型的镀膜仪也在逐渐出现。但大部分人并不了解镀膜仪的工作原理。镀膜仪主要是由真空室、真空机组、电气控制柜三大部分组成。真空设备也分好多类型和型号,种类、用途不一样,其型号也就不一样,但它们的工作原理是相通和类似的。镀膜仪的基本技术要求说明:1.设备中的真空管道、静态密封零部件(法兰、密封圈等)的结构形式,应符合GB/T的规定。2.在低真空和高真空管道上及真空镀膜室上应安装真空测量规管,分别测量各部位的真空度。当发现电...
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离子研磨设备是一种用于材料科学领域的仪器,可用于SEM、EPMA和SAM的样品制备,它可以制备软的、硬的和复合材料的样品,损伤、污染和变形可以控制得非常小。依靠离子束轰击制备样品剖面,观察范围大、清洁而且适用于几乎所有材料。离子研磨设备可一步制备出镜面样品。它几乎可以适用于各种材料,包括难以抛光的软材料,如铜、铝、金、焊料和聚合物等;以及难以切割的材料,如陶瓷和玻璃等。配套的高级CCD显微镜,可以准确地把样品定位在几个微米大小的剖面位置上。制备过程中,自动控制样品摇摆,以避免...
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真空镀膜仪通过连续监控在线生产来保证镀膜产品的优良性,提高车间生产线上的工作效率。镀膜仪的种类多样主要分为:蒸发真空镀膜设备系列、离子真空镀膜仪系列、磁控溅射真空镀膜设备。由于真空镀膜仪的应用非常的广泛,目前已经渗透到车辆、土木建筑工程、机械、包装、环境保护、医药及医疗器械、石油、化工、食品、光学、电气、电子、原子能、半导体、航空航天、低温、专用机械、纺织、造纸、农业以及民用工业等工业部门和科学研究工作中。真空镀膜仪的应用是很复杂的,用户需求掌握必定的操作常识,我们来一起学习...
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镀膜仪是一款多功能型高真空镀膜系统,用于制备超薄,细颗粒的导电金属膜和碳膜,以适用于超高分辨率分析所需的镀膜要求。这一款全自动台式镀膜仪包含内置式无油真空系统石英膜厚监控系统和马达驱动样品台。真空电弧离子的原理是基冷阴极自持弧光放电结合脉冲技术及磁控溅射技术,使沉积粒子细化,膜层的各项性能得以提高。它不仅能在金属制品表面进行镀膜而且能在非金属制品表面制品上进行镀膜,可以镀金属膜、氮化钛、碳化钛、氮化锆、氮化铬、及钛、镍、铬、铜、等化合物膜、多层超硬膜、氮化钛掺金膜和合金膜,并...
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徕卡高真空镀膜仪是磁控溅射、多弧离子、蒸发镀膜的混合性设备,是在多弧离子镀膜机的基础上装备圆柱靶或平面磁控靶,设备具有离子镀的高离化率、高堆积速度的特色,一起也具有磁控溅射低温、安稳的长处,适合镀各种复合膜。徕卡高真空镀膜仪主要由真空镀膜机室、真空抽气机组限及电柜(控制电柜、电子枪电枢)组成,其广泛应用于微电子、光学成膜、民用装饰、表面工程等领域。在防止油污染和缩短工作周期等方面具有有效的性能。徕卡高真空镀膜仪的主要结构讲解:1.蒸腾与磁控溅射的混合设备:多功能,合适量产,适...
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徕卡超薄切片机采用设计理念和制造技术,参考专业标准制造,具有可靠的安全性;同时有可靠的精度保证。可延长保护,滑动离合器和抗锁机制保护仪器和人员安全;刀具可动,角度可调;刀具防护装置能够减少人员的伤害;集成于运行平稳的手轮;切片机附件能够使得样本更换更为容易。徕卡超薄切片机配备一种适合各种刀架的底座,它配备一种一次性的刀架基本单元和快速释放夹具系统,切片机夹具系统能够安装不同的刀片。其重力切片设计,无振动;自动马达驱动刀台;冷冻切片工作温度范围:-15℃~-185℃。超薄切片机...